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  • 离子源物联网智能监控系统

    离子源物联网智能监控系统


    设备集中管理:

    管理设备的基本信息,包括设备型号、安装位置、使用客户等,实现设备接入注册及鉴权


    实时状态监控:

    通过物联网通讯模组,将设备运行的实时数据按设计好的协议进行传输,实现PC端监控设备运行的实时参数。


    远程控制指令:

    通过物联网通讯模组,能够实现控制指令的远程下发从而可以为客户实现远程调试,以及优化。

    离子源物联网智能监控系统
  • 离子束仿真模拟软件平台

    离子束仿真模拟软件平台


    全自主开发离子束模拟算法和仿真软件,根据不同的应用场景模拟出工艺对离子束流的需求,同时基于最优的离子束仿真结果,设计性能优异、符合应用需求的栅网结构,包括栅网面型、孔径大小、孔间距、孔形状、孔分布、栅网安装间距等。






  • 真空镀膜智能控制系统

    全自主研发智能镀膜&溅射控制软件系统


    - 革命性全新架构:ARM+ RT-OS+FPGA;

    - 开放式模块化设计;

    - 基于模糊控制的闭环自控软件算法;

    - 友好的人机交互设计;

    - 支持物联网和云计算架构。


    真空镀膜智能控制系统
  • 宽光谱薄膜实时监控系统

    宽光谱薄膜实时监控系统


    光谱范围:400-1100nm   重复性:0.1-0.3%

    控制类型:投射式监控   采样率:1kHz

    膜层厚度误差:<0.1-0.3%   光谱热稳定性:<0.5nm(20-50°C)

    光谱分辨率:<1.8nm

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    - 成膜控制精度0.1-0.3%;

    - 专用微型光纤光谱仪:400-1100nm;

    - 特殊结构高效光路设计,超高速光谱数据实时采集;

    - 自主研发的智能光控核心算法;

    - 支持薄层控制,在线误差校准,高成品率;

    - 重复性好,尤为匹配非规整膜厚工艺;

    - 搭配水晶膜厚仪使用。

    宽光谱薄膜实时监控系统

Provider of ion beam micro/nano processing equipment and process solutions

High performance ion source/ion beam coating/ion beam etching/
ion beam surface treatment

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